Sebatian hafnium(IV) memiliki ciri kimia dan fizikal yang serupa dengan sebatian zirkonium(IV). Ion hafnium(IV) biasanya membentuk sebatian tak organik dengan tahap pengoksidaan +4. Halida pula bertindak balas dengan ion tersebut untuk membentuk tetrahalida.[6] Beberapa sebatian dengan tahap pengoksidaan hafnium lebih rendah telah dikenal pasti.[7]

Hafnium oksida, HfO2 memiliki ciri-ciri yang serupa dengan zirkonium dioksida, tetapi sedikit kurang berasid.[8]